[发明专利]膜形成装置、膜形成方法及压电致动器的制造方法有效
| 申请号： | 200610125620.3 | 申请日： | 2006-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN1920094A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 安井基博;明渡纯 | 申请（专利权）人： | 兄弟工业株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所 |
| 主分类号： | C23C24/00 | 分类号： | C23C24/00;B41J2/16 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 钟强;关兆辉 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种膜形成装置，具有：成膜室，用于进行成膜；喷射机构，通过在该成膜室内向基板喷射含材料粒子的气溶胶，在该基板上形成由前述材料粒子构成的膜；测量室，与前述成膜室连通；测量机构，测量前述测量室内的前述膜的厚度；压力调整机构，与前述成膜室及前述测量室连接，控制该成膜室及测量室的内压；传送带，在前述成膜室和前述测量室之间传送前述基板；以及隔断部，隔断前述成膜室和前述测量室。由此可保持测量室的内部清洁，不受气溶胶的污染，维持测量精度，在成膜工艺过程中，简单而又精确地测量膜厚，并向成膜条件反馈。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 装置 方法 压电 致动器 制造 | ||
【主权项】：
1.一种膜形成装置，其特征在于，具有：成膜室，用于进行成膜；喷射机构，通过在该成膜室内向基板喷射含有材料粒子的气溶胶，在该基板上形成由前述材料粒子构成的膜；测量室，与前述成膜室连通；测量机构，测量前述测量室内的前述膜的厚度；压力调整机构，与前述成膜室及前述测量室连接，控制该成膜室及测量室的内压；传送带，在前述成膜室和前述测量室之间传送前述基板；以及隔断部，隔断前述成膜室和前述测量室。
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