[发明专利]基板清洗装置和基板清洗方法有效

专利信息
申请号: 200610126007.3 申请日: 2006-08-30
公开(公告)号: CN1923381A 公开(公告)日: 2007-03-07
发明(设计)人: 山本太郎;京田秀治;川崎哲;志村悟 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: B08B3/04 分类号: B08B3/04;B08B3/10
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在对基板表面进行旋转清洗时,减少在基板上残留的水滴,抑制例如曝光后的加热处理时的水滴或水印引起的加热斑。使来自清洗液喷嘴的清洗液的供给位置从基板的中央部向周边移动,同时,相对于比供给位置位于基板旋转方向下游侧的区域,向基板的外侧喷出气体。由此,在清洗液在基板的表面上稍微流动并成为液膜状态下,利用气流对其作用向外侧的力,所以在圆周方向流动的液流向外侧移动。利用在高度与喷出口相同或比其低的位置上形成的液体挤压面部来约束从清洗液喷嘴喷出的清洗液,因为形成液体块,所以即使低速旋转,离心力也变大,使该液体块向外的作用变大。
搜索关键词: 清洗 装置 方法
【主权项】:
1.一种基板清洗装置,其特征在于,包括:基板保持部,水平地保持基板并能自由旋转;清洗液喷嘴,用于向被保持在该基板保持部上的基板的表面供给清洗液,其喷出口倾斜地朝向基板的表面,向基板的外侧喷出清洗液;和第一驱动部,用于移动清洗液喷嘴,使得在所述基板旋转时,来自该清洗液喷嘴的清洗液的供给位置从基板的中央部向周边移动。
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