[发明专利]半导体器件无效
申请号: | 200610126673.7 | 申请日: | 2006-09-01 |
公开(公告)号: | CN1929136A | 公开(公告)日: | 2007-03-14 |
发明(设计)人: | 黑田俊一;林洋一;福田保裕 | 申请(专利权)人: | 冲电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种半导体器件,能够有效防止静电浪涌的破坏、并且具有够抑制由保护电阻引起的电压降低和耗电的输出电路。代替构成半导体器件输出缓冲器的保护电阻(11)和NMOS(7),在输出节点(8)和接地节点(2)之间,并联n组由保护电阻(11x)(x为a、b)和NMOS(7x)构成的串联电路,保护电阻(11x)的电阻值为规定电阻值的n(如,2)倍,NMOS(7x)的栅宽为规定栅宽的1/n。由此,静电浪涌施加在输出焊盘(8)时,各NMOS(7x)中的浪涌电流为未分割时的1/n,破坏承受值变大。另外,由于输出缓冲器的节点(NO)与输出焊盘(8)之间不需要插入保护电阻,所以能够抑制由保护电阻引起的电压降低和耗电。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,具有:输出缓冲器,具有源极和漏极分别与电源线和输出焊盘连接、栅极被提供内部输出信号的P沟道MOS晶体管和漏极通过保护电阻与上述输出焊盘连接、源极与接地线连接、栅极被提供上述内部输出信号的N沟道MOS晶体管;第1保护二极管,正极和负极分别与上述输出焊盘和上述电源线连接;第2保护二极管,负极和正极分别与上述输出焊盘和上述接地线连接;以及电源间保护电路,连接在上述电源线和上述接地线之间、静电浪涌施加在该电源线时成为导通状态,其特征在于,连接在上述输出焊盘和上述接地线之间的上述保护电阻及N沟道MOS晶体管的结构为:将n组由具有规定的保护电阻的n倍的电阻值的被分割的保护电阻和具有规定的栅宽的1/n的栅宽的被分割的N沟道MOS晶体管构成的串联电路并联连接,其中,n是大于等于2的整数。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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