[发明专利]平台表面调整用磨石及表面调整方法无效
| 申请号： | 200610128045.2 | 申请日： | 2006-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN1927543A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 安冈快;风间贤一;恒谷步;佐藤俊二 | 申请（专利权）人： | 信浓电气制炼株式会社 |
| 主分类号： | B24B53/013 | 分类号： | B24B53/013;B24B53/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉;贾静环 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种平台表面调整用磨石，系使用于研磨装置之以对研磨平台实施表面调整为目的之平台表面调整用磨石，上述研磨装置系研磨平台上配设着具有研磨加工件保持用孔部之研磨加工件用托架，将研磨加工件保持于前述托架之孔部，使研磨平台及托架分别进行旋转，同时，对前述研磨平台供应游离研磨粒来研磨上述研磨加工件，其特征为，由洛氏硬度(HRS)为－30～－100之合成树脂制弹性磨石所构成。据本发明，可有效率地实施硅晶圆及合成石英玻璃等研磨加工件之研磨，不但可实现研磨时间之缩短化，尚可降低研磨成本。此外，研磨加工件表面之粗度误差较小，可得品质安定之研磨品。 | ||
| 搜索关键词： | 平台 表面 调整 磨石 方法 | ||
【主权项】：
1、一种平台表面调整用磨石，是使用于研磨装置中用以对研磨平台施以表面调整，该研磨装置是于研磨平台上配设着具有研磨加工件保持用孔部的研磨加工件用托架，将研磨加工件保持于该托架的孔部，使研磨平台及托架分别进行旋转，同时对该研磨平台供应游离研磨粒来研磨该研磨加工件，其特征为：该平台表面调整用磨石是由洛氏硬度(HRS)为-30～-100的合成树脂制弹性磨石所构成。
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