[发明专利]用于垂直磁记录介质的SiN涂层无效
| 申请号： | 200610128063.0 | 申请日： | 2006-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN1925013A | 公开（公告）日： | 2007-03-07 |
| 发明（设计）人： | 戴青;霍亚·V·多;肖敏;宾·K·严 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/72;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于磁记录的磁介质上使用的SiN涂层。该SiN涂层通过在施加负DC偏置的同时由脉冲DC溅射沉积。所述SiN涂层在垂直磁记录介质上尤其有用，因为它能够薄地且均匀地沉积在粗糙的颗粒状高矫顽力记录介质上同时保持优良的侵蚀保护属性。SiN涂层可以施加得小于3nm厚同时仍维持优良的机械和侵蚀保护。该涂层还具有非常高的密度和水接触角。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 垂直 记录 介质 sin 涂层 | ||
【主权项】：
1.一种用于数据记录系统的磁介质，该介质包括：磁层；以及形成在所述磁层上的涂层，该涂层包括SiN。
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