[发明专利]沉积装置有效
| 申请号： | 200610128180.7 | 申请日： | 2006-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN1928149A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 荒井康行;山崎舜平 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;陈景峻 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种沉积装置，该沉积装置设置有与在其上沉积薄膜的衬底相对的并能够根据衬底表面而移动的蒸发源，还设置有用于将蒸发材料供给至蒸发源的工具(蒸发材料供给工具)。由移动工具支持蒸发源，该移动工具能够扫描其上沉积薄膜的衬底表面。该蒸发材料供给工具使用下述方法：通过气流供给蒸发材料粉末的方法、将蒸发材料溶解或分散在溶剂中并雾化该材料液体而进行供给的方法、或者以棒状、线状、粉末状以及通过机械机构附着到柔性薄膜的状态供给蒸发材料的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 | ||
【主权项】：
1.一种沉积装置，包括：处理腔，能够保持减压状态；蒸发源，设置于所述处理腔内并与待沉积蒸发材料的衬底相对；移动机构，用于在所述处理腔内相对于所述衬底移动所述蒸发源；材料供给源，用于供给蒸发材料；以及材料供给管，用于将所述材料供给源连接到所述蒸发源。
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