[发明专利]半导体器件及其制造方法有效
申请号: | 200610128855.8 | 申请日: | 2006-08-31 |
公开(公告)号: | CN1925140A | 公开(公告)日: | 2007-03-07 |
发明(设计)人: | 铃木恒德;野村亮二;汤川干央;大泽信晴;高野圭惠;浅见良信;佐藤岳尚 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L21/84 | 分类号: | H01L21/84;H01L27/28;H01L27/32 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 任宗华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是高产率地制造半导体器件,在所述半导体器件内,在柔性基底上提供具有含有机化合物的层的元件。制造半导体器件的方法包括:在基底上形成分离层;通过在分离层上形成无机化合物层、第一导电层,和含有机化合物的层,并形成与含有机化合物的层和无机化合物层接触的第二导电层,从而产生形成元件的层;和在将第一柔性基底固定在第二导电层上之后,在分离层处将分离层与形成元件的层分离。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.制造半导体器件的方法,该方法包括:在基底上形成分离层;产生形成元件的层,步骤包括:在分离层上形成无机化合物层;在分离层上形成半导体元件;和其上形成第一电极层和与半导体元件相连;在第一电极层上形成含有机化合物的层,和形成在含有机化合物的层和无机化合物层之上并与之接触的第二电极层;和在第二电极层上固定第一柔性基底,在分离层处,将基底和形成元件的层彼此分离,以便通过第一柔性基底支撑形成元件的层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造