[发明专利]分配装置和安装系统无效
申请号: | 200610130916.4 | 申请日: | 2006-11-14 |
公开(公告)号: | CN101017787A | 公开(公告)日: | 2007-08-15 |
发明(设计)人: | 寺田胜美;武井崇 | 申请(专利权)人: | 东丽工程株式会社 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 肖春京;谭祐祥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种用于将底层填料填充入基板(K)与芯片(C)之间的间隙内的分配装置(4),包括用于存储底层填料的装置(66,67),一个用于容纳一块需要填充底层填料的基板(K)并且能够被打开/关闭的腔室(52),一个设置于腔室(52)中并且将从存储装置(66,67)导入的底层填料填充入基板(K)与芯片(C)之间的间隙内的分配器(73),以及一个用于在利用分配器(73)填充底层填料之前将腔室(52)中的压力降低至一个预定真空压力的第一减压装置(46)。分配装置(4)可以将不带有气泡的底层填料供送至基板(K)。本发明还提供了一种使用这种分配装置(4)的安装系统。 | ||
搜索关键词: | 分配 装置 安装 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于将底层填料填充入基板与芯片之间的间隙内的分配装置,包括:用于存储底层填料的装置;腔室,用于容纳需要填充底层填料的基板,并且能够被打开/关闭;分配器,设置于所述腔室中,并且将从所述存储装置导入的底层填料填充入基板与芯片之间的间隙内;以及第一减压装置,用于在利用所述分配器填充底层填料之前将所述腔室中的压力降低至预定的真空压力。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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