[发明专利]压印光刻的校准无效
| 申请号： | 200610131010.4 | 申请日： | 2006-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN101051182A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | J·F·迪杰克斯曼;Y·W·克鲁伊特－斯特格曼;R·J·克纳彭;K·T·克拉斯特夫;S·F·武斯特;I·施拉姆;J·范文格登 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 庞立志;段晓玲 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种相对于基板的目标区域校准压印模板的方法，该方法包括在目标区域内沉积一定体积的可压印介质；使压印模板接触可压印介质，使得可压印介质被压制；和在目标区域和压印模板之间的界面张力的作用下，使压印模板、目标区域或两者彼此相互横向运动，其中，提供比基板湿润性小的材料，其配置为至少部分地包围基板的目标区域。 | ||
| 搜索关键词： | 压印 光刻 校准 | ||
【主权项】：
1.一种相对于基板的目标区域校准压印模板的方法，该方法包括：在目标区域内沉积一定体积的可压印介质；使压印模板接触可压印介质，使得可压印介质被压制；和在目标区域和压印模板之间的界面张力的作用下，使压印模板、目标区域或两者彼此相互横向运动，其中，提供比基板湿润性小的材料，其配置为至少部分地包围基板的目标区域。
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