[发明专利]光刻装置有效
| 申请号： | 200610132121.7 | 申请日： | 2006-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN1949081A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | S·M·J·科尼利森;M·A·W·库杰帕斯;C·C·奥坦斯;P·史密茨;J·A·M·范德瓦尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;黄力行 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻装置，其中圆形传感器通过三个板簧安装在基底台上，所述板簧围绕传感器的热轴线均匀隔开。该板簧布置成两个彼此可拆卸连接的安装部。板簧是弹性的，并允许传感器因热膨胀和收缩而相对基底台移动，但是可以确保传感器的热心不相对基底台移动。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：构造成保持基底的基底台；和通过至少一个安装件安装在所述基底台上的物件，其中所述安装件连接在所述物件和所述基底台之间，并且包括弹性材料，从而允许所述物件相对所述基底台移动。
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