[发明专利]灰调掩模及其制造方法有效
| 申请号： | 200610132210.1 | 申请日： | 2002-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN1940719A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | 野津手重德 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F7/09;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可容易地获得透射率控制膜的膜厚均匀性高的灰调掩模的制造方法。例如，在透明衬底11上依次形成透射率控制膜12(CrO等)、透射率降低膜13(Cr等)和抗蚀剂膜14，除去应形成透光部的部分(区域C)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13和透射率控制膜12而形成透光部，接着，除去应形成灰调部的部分(区域A)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13而形成灰调部，来制造灰调掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 灰调掩模 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种灰调掩模，具有遮光部、透光部、透射一部分曝光光的灰调部，其特征在于，构成所述遮光部的膜至少由主要从透明衬底一侧控制灰调部中的透射率的透射率控制膜、降低遮光部中的透射率的透射率降低膜构成，所述透射率控制膜和所述透射率降低膜都是由包含相同金属的膜构成，所述灰调部是把构成所述遮光部的膜沿其厚度方向除去一部分而形成的。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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