[发明专利]基于磁流变效应的研磨抛光方法及其抛光装置有效

专利信息
申请号: 200610132495.9 申请日: 2006-12-31
公开(公告)号: CN100999061A 公开(公告)日: 2007-07-18
发明(设计)人: 阎秋生;高伟强;路家斌 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B29/02;C09G1/18;C09G1/02
代理公司: 广州粤高专利代理有限公司 代理人: 林丽明
地址: 510006广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种基于磁流变效应的研磨抛光方法,在磁流变液中加入游离磨料作为研磨抛光液注入磁性体与工件表面之间,在磁场作用下磁流变液中的铁磁粒子成串排列将磨料微粒包裹、约束在磁性体端面,形成磁性研磨刷,构成研磨工具,对工件表面进行研磨抛光加工;本发明还公开了基于磁流变效应的研磨抛光方法所使用的研磨抛光装置,装置由安装在连接电机的主轴上的研磨工具和用于安装工件的工作台构成,所述研磨工具由若干小尺寸磁性体排列组合为平面或曲面研磨工作面、在由磁流变液和游离磨料组成的研磨抛光液中构成点阵式磁流变效应研磨刷,磁性体由永久磁铁或电磁铁制成;本装置能够达到高效率高精度研磨加工超光滑表面的效果。
搜索关键词: 基于 流变 效应 研磨 抛光 方法 及其 装置
【主权项】:
1.一种基于磁流变效应的研磨抛光方法,其特征在于:在磁流变液中加入游离磨料作为研磨抛光液注入磁性体与工件表面之间,在磁场作用下磁流变液中的铁磁粒子成串排列将磨料微粒包裹、约束在磁性体端面,形成磁性研磨刷,构成研磨工具,对工件表面进行研磨抛光加工。
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