[发明专利]用于去除残留物的水性清洗组合物及使用该组合物的方法有效
| 申请号： | 200610135974.6 | 申请日： | 2006-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN1949085A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | 吴爱萍;R·J·罗维托 | 申请（专利权）人： | 气体产品与化学公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吕彩霞;段晓玲 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在此描述了一种用于从基底上去除残留物的组合物和使用该组合物的方法，所述残留物例如但不限于蚀刻后和/或灰化后的光刻胶，等离子蚀刻、灰化产生的残留物，以及它们的混合物。一方面，提供了一种从基底上去除残留物的方法，该方法包括：用组合物接触基底，该组合物包括：水；季铵氢氧化物；含氟化合物；和任选的缓蚀剂，其中该组合物不含添加的有机溶剂并且其中该组合物的pH大于9。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 残留物 水性 清洗 组合 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于从基底上去除残留物的组合物，该组合物包括：水；季铵氢氧化物；含氟化合物；和任选的缓蚀剂，其中该组合物基本上不含添加的有机溶剂，并且其中该组合物具有大于9的pH。
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