[发明专利]垂直磁记录介质有效

专利信息
申请号: 200610136131.8 申请日: 2006-10-16
公开(公告)号: CN1953064A 公开(公告)日: 2007-04-25
发明(设计)人: 荒井礼子;细江让;马渕胜美;松本浩之;正田光弘 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/66 分类号: G11B5/66;G11B5/667;H01F10/14;H01F10/16
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 李涛;钟强
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 为获得具有高介质S/N和优良的抗腐蚀性的介质,在衬底11上依次淀积粘附层12、软磁性层13、中间层14、磁性记录层15和保护层16。软磁性衬垫层13由至少两软磁性层组成,第一软磁性层132形成在记录层侧,由包含85at.%或更少的Co的非晶合金组成,第二软磁性层131形成在衬底侧,由包含85at.%或更多的Co的合金组成。
搜索关键词: 垂直 记录 介质
【主权项】:
1.一种垂直磁性记录介质包括:在衬底上依次叠层的软磁性衬垫层、中间层、磁记录层、保护层,其中所述软磁性衬垫层具有至少叠层两软磁性层的结构,形成在所述磁记录层的一侧的软磁性层由包含15at.%或更多的非磁性成分的非晶合金组成,形成在衬底的一侧的软磁性层由包含少于15at.%的非磁性成分的合金组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立环球储存科技荷兰有限公司,未经日立环球储存科技荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610136131.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top