[发明专利]光掩膜基板的制造方法有效
| 申请号： | 200610136330.9 | 申请日： | 2006-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN1955840A | 公开（公告）日： | 2007-05-02 |
| 发明（设计）人： | 福岛慎泰;吉川博树;金子英雄;稻月判臣 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种具有最基本结构的基座(11)，具有包括第一和第二透明石英部分(11a)以及夹在它们之间的不透明石英部分(11b)的三层结构。例如，不透明石英部分(11b)由“泡沫石英”制成。另外，考虑在衬底(10)上所形成的薄膜的组分或厚度以及在闪光照射期间关于照射光能量的各种条件等，将不透明石英部分(11b)对闪光的不透明度确定在基于不透明石英部分(11b)材料或厚度的适当范围内。叠置结构可以包括具有不同透明度的多个不透明石英层的叠置。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩膜基板 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光掩膜基板的制造方法，包括：利用闪光对在透明衬底上所形成的光学膜进行照射的步骤，其中在将所述透明衬底安装在由对所述闪光不透明的玻璃材料制成的衬底支撑部件上的情况下执行所述照射，所述衬底支撑部件为具有n(n是等于或大于2的自然数)层透光材料的叠置结构，且n层中的至少一层具有不同于其它层的对所述闪光的不透明度。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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