[发明专利]薄膜晶体管结构及液晶显示器用基板制备方法无效
申请号: | 200610136386.4 | 申请日: | 2006-10-17 |
公开(公告)号: | CN1933128A | 公开(公告)日: | 2007-03-21 |
发明(设计)人: | 李奕纬;朱庆云 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/84 | 分类号: | H01L21/84;H01L21/768;H01L21/336;H01L21/28;H01L27/12;H01L23/522;H01L23/532;H01L29/786;H01L29/49;H01L29/423 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明有关于薄膜晶体管结构及液晶显示器用基板制备方法。方法步骤包括:(a)提供一基板;(b)形成一具有多个凹槽的透光层于基板表面;(c)形成一第一阻障层于凹槽表面;(d)填充一第一金属层于第一阻障层上,并使第一金属层的表面与透光层的表面位于同一平面;以及(e)依序形成一第一绝缘层与一半导体层。本发明方法更可包括:(f)形成一图案化的第二金属层,并暴露出部分半导体层,以形成一薄膜晶体管的一漏极结构与一源极结构;以及(g)形成一透明导电层于部分透光层、与漏极结构的部分第二金属层表面。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 结构 液晶显示 器用 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种液晶显示器用基板的制作方法,其中,包括:(a)提供一基板;(b)形成一图案化的透光层于基板表面,其中图案化透光层具有多个凹槽;(c)形成一第一阻障层于凹槽表面;(d)填充一第一金属层于一阻障层上,使第一金属层的表面与透光层的表面位于同一平面;以及(e)依序形成一第一绝缘层与一半导体层于第一金属层与部分透光层上;(f)形成一图案化的第二金属层于半导体层表面与部分的图案化透光层表面,并暴露出部分半导体层,以形成一薄膜晶体管的一漏极结构与一源极结构;以及(g)形成一透明导电层于部分透光层、与漏极结构的部分第二金属层表面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造