[发明专利]发光半导体元件的制造方法有效

专利信息
申请号: 200610136532.3 申请日: 2001-03-16
公开(公告)号: CN1933202A 公开(公告)日: 2007-03-21
发明(设计)人: S·巴德尔;B·哈恩;V·海勒;H·-J·卢高尔;M·蒙德布罗德-范格罗;D·埃塞尔特 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 蔡民军;胡强
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于制作发光半导体元件的方法,这种元件的半导体本体由一个若干不同的III-V族-氮化物-半导体层(1)的层叠构成并具有第一个主面(3)和第二个主面(4),其中,产生的辐射的至少一部分通过该第一主面输出,且该第二主面具有一个反射器,其特征为,这些III-V族-氮化物-各层被设置在一个复合衬底上,该复合衬底具有一个衬底本体和一层夹层,其中,该衬底本体的热膨胀系数相似于或最好大于III-V族-氮化物-各层的热膨胀系数,且III-V族-氮化物-各层淀积在该夹层上。
搜索关键词: 发光 半导体 元件 制造 方法
【主权项】:
1.用于制作发光半导体元件的方法,这种元件的半导体本体由一个若干不同的III-V族-氮化物-半导体层(1)的层叠构成并具有第一个主面(3)和第二个主面(4),其中,产生的辐射的至少一部分通过该第一主面输出,且该第二主面具有一个反射器,其特征为,将这些III-V族-氮化物-各层被设置在一个复合衬底上,该复合衬底具有一个衬底本体和一层夹层,其中,该衬底本体的热膨胀系数相似于或最好大于III-V族-氮化物-各层的热膨胀系数,且III-V族-氮化物-各层淀积在该夹层上。
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