[发明专利]偏光子的制法及偏光片的制法无效

专利信息
申请号: 200610137433.7 申请日: 2006-10-25
公开(公告)号: CN101169493A 公开(公告)日: 2008-04-30
发明(设计)人: 蔡政欣;傅从能 申请(专利权)人: 达信科技股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 魏晓刚;李晓舒
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种偏光子的制法,包括提供一聚乙烯醇(PVA)膜;将PVA膜浸泡在染色溶液中,进行浸染处理;将PVA膜浸泡在第一溶液中,以进行预处理;及将预处理后的PVA膜浸泡在第二溶液中,同时延伸PVA膜。第一溶液含有二元羧酸以及催化二元羧酸与PVA膜表面反应的催化剂,不含硼酸。第二溶液含有硼酸。
搜索关键词: 偏光 制法
【主权项】:
1.一种制造偏光子的方法,包括有:提供一聚乙烯醇(PVA)膜;将该PVA膜浸泡在染色溶液中,进行浸染处理;将该PVA膜浸泡在第一溶液中,以进行预处理,其中该第一溶液包括二元羧酸以及催化该二元羧酸与该PVA膜表面反应的催化剂,而不包括硼酸;及将预处理后的该PVA膜浸泡在第二溶液中,同时延伸该PVA膜,其中该第二溶液包括硼酸。
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