[发明专利]光学装置有效
申请号: | 200610138066.2 | 申请日: | 2006-11-07 |
公开(公告)号: | CN1963587A | 公开(公告)日: | 2007-05-16 |
发明(设计)人: | 高宫诚;大贯一朗 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B7/38 | 分类号: | G02B7/38 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了一种光学装置,该光学装置在相位差检测方法中能可靠地形成AF像并分离该AF像以提供优良的焦点检测性能。该光学装置包括包含偏转光学元件的光偏转单元。该偏转光学元件使第一光束和第二光束中的至少一个光束相对于另一个光束向与该第一和第二区域彼此分离的方向不同的方向偏转,该第一和第二光束分别通过光学系统的出瞳中的第一区域和第二区域,并在光电转换元件上形成像。该光偏转单元包括光限制构件,该光限制构件限制从光偏转单元射出的光束在光电转换元件上形成像的成像区域。 | ||
搜索关键词: | 光学 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光学装置,其包括:光偏转单元,其包括偏转光学构件,所述偏转光学构件使第一光束和第二光束中的至少一个光束相对于另一个光束偏转,所述第一和第二光束分别通过光学系统的出瞳中的第一区域和第二区域,并在光电转换元件上形成像,其中,所述光偏转单元包括光限制构件,所述光限制构件限制从所述光偏转单元射出的所述第一和第二光束中的至少一个光束在所述光电转换元件上形成像的成像区域。
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