[发明专利]非氧化性气氛用窑具有效
申请号: | 200610139235.4 | 申请日: | 2006-09-20 |
公开(公告)号: | CN1935741A | 公开(公告)日: | 2007-03-28 |
发明(设计)人: | 古宫山常夫;山川治;堀清一 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社;NGK阿德列克株式会社 |
主分类号: | C04B35/565 | 分类号: | C04B35/565;C04B35/66;F27D3/12 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 钟晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种非氧化性气氛用窑具,主要成分为SiC与Si3N4和/或Si2N2O,并且含有氮氧化硅和氧化硅以外的无机氧化物0.12~3.0质量%。该窑具即使是在氧浓度为1000ppm以下的非氧化性氛围下,也能够防止强度显著劣化甚至破损,同时能够大幅度提高实际使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 氧化 性气 氛用窑具 | ||
【主权项】:
1.非氧化性气氛用窑具,主要成分为SiC与Si3N4和/或Si2N2O,并且含有氮氧化硅和氧化硅以外的无机氧化物0.12~3.0质量%。
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