[发明专利]一种薄膜晶体管在彩膜之上的液晶显示器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200610139759.3 申请日: 2006-09-22
公开(公告)号: CN101149546A 公开(公告)日: 2008-03-26
发明(设计)人: 龙春平 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1335;G02F1/1333;G03F7/20;H01L21/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 刘芳
地址: 100176北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种薄膜晶体管在彩膜之上的液晶显示器件,其中包括:下基板;黑矩阵,形成在下基板之上;彩色滤光层,形成在黑矩阵的开口处,对应于像素区域;过敷保护膜,形成在彩色滤光层和黑矩阵之上;栅线及栅电极,形成在过敷保护膜之上;薄膜晶体管,形成在栅电极上;数据线、源电极和漏电极,形成在薄膜晶体管之上;钝化保护膜,形成漏电极的部分区域和像素区域以外的其它部分之上;像素电极,形成在像素区域的过敷保护膜之上,与漏电极的部分区域形成接触;上基板;公共电极,形成在上基板上;液晶分子层,形成在上基板和下基板之间。本发明同时公开了该显示器件的制造方法。本发明提高了显示器件光透过率和开口率,简化了工艺方法。
搜索关键词: 一种 薄膜晶体管 之上 液晶显示 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管在彩膜之上的液晶显示器件,其特征在于,包括:一下基板;一黑矩阵,形成在所述下基板之上,其开口部分对应为像素区域;一彩色滤光层,形成在所述黑矩阵的开口处,对应于所述像素区域;一过敷保护膜,形成在所述彩色滤光层和黑矩阵之上;一栅线及与其连接的栅电极,形成在所述过敷保护膜之上;一栅电极绝缘层,形成在所述栅线和栅电极之上;一本征半导体层和掺杂半导体层,形成在所述栅电极绝缘层之上;一薄膜晶体管沟道,形成在本征半导体层上,其上没有掺杂半导体层;一数据线及与其相连接的源电极和对应的漏电极,形成在所述掺杂半导体层之上;一钝化保护膜,形成在所述数据线、源电极、漏电极的部分区域、薄膜晶体管沟道、栅电极绝缘层和像素区域以外的其它部分之上;一像素电极,形成在所述像素区域的过敷保护膜之上,与所述漏电极的部分区域形成接触;一上基板;一公共电极,形成在所述上基板上;一液晶分子层,形成在所述上基板和下基板之间。
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