[发明专利]光刻胶组合物无效
| 申请号： | 200610140353.7 | 申请日： | 2006-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN1975575A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | 金柄郁;金东敏;朴大然;金周赫;崔基植;金贞元;李起范;卞哲基;金纹秀 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/016 | 分类号： | G03F7/016;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于制造液晶显示元件的电路、半导体集成电路等微细电路的光刻胶组合物，具体地涉及一种包含(a)酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)流动性改善剂、(d)灵敏度增进剂、及(e)有机溶剂的感光性组合物。本发明所提出的光刻胶组合物通过使用流动性改善剂及灵敏度增进剂，防止了强真空干燥引起的图案变形，并提高了图案的均匀性，且具有感光速度、残膜率、显影对比度、分辨率、高分子树脂的溶解性、与基板的粘合性，及电路线宽均匀性均优异的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1、一种光刻胶组合物，其特征在于，包含：a)酚醛清漆树脂；b)重氮类感光性化合物；c)流动性改善剂；d)灵敏度增进剂；e)有机溶剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东进世美肯株式会社，未经东进世美肯株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610140353.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
