[发明专利]混合型成像装置及其方法无效
| 申请号： | 200610141597.7 | 申请日： | 2006-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1975596A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | 冈田久雄;崔源;裵贤旭 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/08 | 分类号： | G03G15/08;G03G15/00;G03G13/00;G03G9/10 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平;杨梧 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种混合型成像装置和方法。所述装置使用包含调色剂和载体的混合物的显影剂，并且该装置包括感光体和显影单元。静电潜像形成在感光体上。显影单元包括磁辊和显影辊。磁辊在其外周上形成包括调色剂和载体的磁刷；而显影辊安装成使得显影辊不接触磁辊和感光体，以利用从所述磁刷供应来的调色剂显影静电潜像。显影剂的电阻率不大于109Ωcm。 | ||
| 搜索关键词： | 混合 成像 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种混合型成像装置，其使用含有调色剂和载体的混合物的显影剂，所述装置包括：其上形成静电潜像的感光体；显影单元，其包括显影剂和磁辊，该磁辊构造成在其外周上形成包括调色剂和载体的磁刷；和显影辊，其安装成使得显影辊不接触所述磁辊和感光体，并且构造成利用从所述磁刷供应来的调色剂显影静电潜像，其中所述显影剂的电阻率不大于109Ωcm。
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