[发明专利]匀平剂化合物有效
| 申请号： | 200610141622.1 | 申请日： | 2006-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN1940146A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | D·王;R·D·米克拉;G·G·巴克利 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/38 | 分类号： | C25D3/38 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了用于金属镀浴的均化剂。包含这些均化剂的镀浴提供了具有相当平坦表面的金属沉积。可通过选择这些均化剂以选择性地在金属沉积中结合所需含量的杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 匀平剂 化合物 | ||
【主权项】：
1.一种包含金属离子源、电解质和聚合物均化剂的组合物，所述聚合物均化剂包含作为聚合单元的烯键式不饱和含碳杂环单体。
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