[发明专利]光刻装置和调节器件制造装置的内部空间的方法有效
| 申请号： | 200610142098.X | 申请日： | 2006-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1940728A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | T·A·R·范恩佩尔;R·范德哈姆;N·J·J·罗塞特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;廖凌玲 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置，包括配置成向所述装置的内部空间供给第一气流的至少一个第一气体喷头和配置成向所述装置的内部空间供给第二气流的至少一个第二气体喷头，其中所述气体喷头配置成将第一气流和第二气流至少部分地朝向彼此引导。还提供一种方法，其用于调节器件制造装置的内部空间，其中第一调节气流和第二调节气流被供给到所述内部空间，使得第一调节气流和第二调节气流至少部分地向彼此引导。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 调节 器件 制造 内部空间 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括配置成向所述装置的内部空间供给第一气流的至少一个第一气体喷头和配置成向所述装置的内部空间供给第二气流的至少一个第二气体喷头，其中所述气体喷头配置成将第一气流和第二气流至少部分地朝向彼此引导。
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