[发明专利]校正多透镜阵列的像场弯曲的系统和方法无效
| 申请号： | 200610142145.0 | 申请日： | 2006-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1945442A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | L·C·祖里茨马;J·J·M·巴塞曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;廖凌玲 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 通过使用非平面的校正表面减小聚焦元件阵列的像场上的焦平面误差，所述校正表面成形为使得聚焦元件的焦点比当校正表面为平面时更接近单平面。例如，当在光刻系统的投影系统中使用聚焦元件阵列时可以使用这种布置。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 透镜 阵列 弯曲 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：调制辐射光束的构图部件；将调制的辐射光束投影到基底的靶部上的投影系统，所述投影系统包括聚焦元件阵列，其配置成使得聚焦元件阵列中的每个聚焦元件将部分调制的辐射光束聚焦到基底上，和非平面校正表面，其成形为使得当投影系统将调制的辐射光束投影到基底上时，聚焦元件的焦点比当校正表面为平面时更接近单平面。
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