[发明专利]抛光组合物和抛光方法无效
| 申请号： | 200610142160.5 | 申请日： | 2006-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN1939994A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | 松波靖;平野淳一;林杰 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/18;B24B1/00;G11B5/84 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民;董红曼 |
| 地址： | 日本国爱知县清须*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种抛光组合物，含有研磨颗粒例如胶态二氧化硅、酸例如柠檬酸和正磷酸、氧化剂例如过氧化氢、以及一种选自吡咯及其衍生物的化合物例如苯并三唑。这种抛光组合物适用于磁盘基片的抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光组合物，其特征在于，含有研磨颗粒、酸、氧化剂、以及一种选自吡咯及其衍生物的化合物，所述抛光组合物被用于抛光磁盘基片。
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