[发明专利]用大氧化孔径垂直腔面发射激光器件的光学数据处理装置无效
| 申请号： | 200610142202.5 | 申请日： | 2006-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN1987674A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | 植木伸明 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/04 | 分类号： | G03G15/04;B41J2/447 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了用大氧化孔径垂直腔面发射激光器件的光学数据处理装置。光学数据处理装置包括：光源；光学系统，该光学系统将来自所述光源的光会聚于光学数据存储介质；以及用于在所述光学数据存储介质上扫描经会聚的激光的机构，所述光源包括发射激光的至少一个垂直腔面发射激光器件，所述至少一个垂直腔面发射激光器件在形成垂直谐振器结构的第一镜与第二镜之间包括有源区和电流限制部，并且在所述电流限制部中形成有直径等于或大于大约4微米的开口，用于施加电流。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 孔径 垂直 发射 激光 器件 光学 数据处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光学数据处理装置，该光学数据处理装置包括：光源；光学系统，该光学系统将来自所述光源的光会聚到光学数据存储介质；以及用于在所述光学数据存储介质上扫描经会聚的激光的机构；其中，所述光源包括发射激光的至少一个垂直腔面发射激光器件，所述至少一个垂直腔面发射激光器件在形成垂直谐振器结构的第一镜与第二镜之间包括有源区和电流限制部；并且其中，在所述电流限制部中形成有直径大于大约4微米的开口以用于电流注入。
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