[发明专利]制造相变型光记录媒体的方法无效
| 申请号： | 200610142565.9 | 申请日： | 2004-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN1953074A | 公开（公告）日： | 2007-04-25 |
| 发明（设计）人： | 中居司;芦田纯生;柚须圭一郎;塚本隆之;大间知范威;中村直正;市原胜太郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;G11B7/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种制造相变型光记录媒体的方法，该相变型光记录媒体具有利用光照射被可逆地记录和擦除的相变型记录膜和至少一层介电体膜，该方法的特征在于包括以下步骤：制备SiC靶或包括Si和SiC的混合靶，以形成至少一层介电体膜；在含有Ar和O2的气体中进行DC溅射来沉积含有Si、O和C的SiOC膜，该SiOC膜的碳浓度为0.1－30原子％。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 相变 记录 媒体 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造相变型光记录媒体的方法，该相变型光记录媒体具有利用光照射被可逆地记录和擦除的相变型记录膜和至少一层介电体膜，该方法的特征在于包括以下步骤：制备SiC靶或包括Si和SiC的混合靶，以形成至少一层介电体膜；在含有Ar和O2的气体中进行DC溅射来沉积含有Si、O和C的SiOC膜，该SiOC膜的碳浓度为0.1-30原子％。
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