[发明专利]从基材上去除有机电致发光残留物的方法无效
| 申请号： | 200610142756.5 | 申请日： | 2006-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN1937280A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | A·D·约翰逊;P·J·马罗利斯;M·I·斯斯特恩;M·J·普利什卡 | 申请（专利权）人： | 气体产品与化学公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;B08B7/00;C23C14/00;C23C16/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘锴;段晓玲 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在此描述了一种从基材上去除有机电致发光残留物的方法。该方法包括以下步骤：提供包括含氟气体、任选的含氧气体和任选的添加气体的处理气体；使用至少一个能量源激活在远处腔室中的处理气体以获得活性反应组分；以及使该活性反应组分接触基材的表面，以便从该表面上挥发和去除有机电致发光残留物。 | ||
| 搜索关键词： | 基材 去除 有机 电致发光 残留物 方法 | ||
【主权项】：
1、一种从基材的至少部分表面上去除有机电致发光残留物的方法，该方法包括：提供处理气体，其包括含氟气体、任选的含氧气体和任选的添加气体；使用至少一个能量源激活在远处腔室中的处理气体以提供活性反应组分；以及使该活性反应组分接触基材的表面，以便从该表面上挥发和去除有机电致发光残留物。
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