[发明专利]液晶显示结构及其制造方法有效
申请号: | 200610143118.5 | 申请日: | 2006-11-01 |
公开(公告)号: | CN1945389A | 公开(公告)日: | 2007-04-11 |
发明(设计)人: | 郑逸圣 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133;G02F1/136;G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陶海萍 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供了一种液晶显示结构及其制造方法,该液晶显示结构及其制造方法通过增加一外加的导电层(即一第三导电层),使该导电层分别于基板的控制区域及电容区域上,电性连接第二导电层、控制装置、及储存电容装置;于工艺中并利用半色调掩膜,同时定义第三导电层与透明电极的图案,由此控制曝光工艺,有效降低制造成本,并间接增加有效电场。 | ||
搜索关键词: | 液晶显示 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造一液晶显示结构的方法,其特征在于,所述结构包含一基板,所述基板具有多像素区域,所述像素区域具有一控制区域、一电容区域、及一显示区域,所述方法包含下列步骤:步骤a.分别形成一多晶硅层,于所述基板的控制区域及电容区域上;步骤b.形成一下介电层,覆盖于所述基板的控制区域及电容区域上,且对应于所述控制区域及电容区域,局部形成一第一导电层于所述下介电层上,于所述控制区域上形成一控制装置;步骤c.形成一上介电层,覆盖所述电容区域的所述第一导电层,并分别于所述控制区域及电容区域上形成一第二导电层,于所述电容区域中,与所述第一导电层间,形成一储存电容装置;步骤d.形成一平坦介电层及一透明电极于所述控制区域、电容区域、及显示区域上,覆盖所述控制装置及储存电容装置,并使所述控制区域及电容区域至少其中之一的第二导电层,形成至少一曝露区域;步骤e.形成一第三导电层,电性连接所述第二导电层的至少一曝露区域、所述控制装置、及所述储存电容装置;以及步骤f.同时定义所述第三导电层与所述透明电极的所需图案。
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