[发明专利]激光诱导热成像设备和激光诱导热成像方法有效
| 申请号： | 200610143367.4 | 申请日： | 2006-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN1958302A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | 鲁硕原;金茂显;李城宅;金善浩;成镇旭;宋明原;李相奉 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/382 | 分类号： | B41M5/382;H01L51/00;H01L51/56;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于成像施主薄膜的成像层到受体基板上的激光诱导热成像设备。该激光诱导热成像设备包括：基板台和施主薄膜，其中，该基板台包括磁铁，并且适于容放具有有机光发射装置的象素区的受体基板，该施主薄膜包括成像在该象素区上的有机光发射层；激光振荡器，其发射激光到该施主薄膜上；接触框架，其适应于设置在该基板台和该激光振荡器之间，并且包括对应于施主薄膜的成像部分的图案的开口部分和用于与该基板台形成磁力的永磁铁；和接触框架移动机构，其用于向该基板台移动该接触框架。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 诱导 成像 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于形成有机光发射装置的发光层的激光诱导热成像设备，该设备包括：基板台，其中，该基板台包括磁铁，并且适应于容放受体基板和施主薄膜，该受体基板具有该有机光发射装置的象素区，该施主薄膜包括成像在该象素区上的该有机光发射层；激光振荡器，用于在该施主薄膜上发射激光；接触框架，适于设置在该基板台和该激光振荡器之间，并且包括对应于该施主薄膜的成像部分的图案的开口部分和用于与该基板台形成磁力的磁铁；和接触框架移动机构，用于向该基板台移动该接触框架。
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