[发明专利]有机抗反射涂料聚合物,抗反射涂料组合物及其制备方法

摘要

下式1的有机抗反射聚合物、其制备方法、一种包括有机抗反射聚合物的抗反射涂料组合物和由其制得的抗反射涂层的制备方法。该包含聚合物的抗反射涂层消除了由晶片的下层光学性能和光刻胶的厚度变化所引起的驻波，防止了由于从下层衍射和反射的光引起的回射和CD变换。这些优点使得能够形成适用于64M、256M、1G、4G和16G DRAM半导体器件的稳定的超微图案，改进生产产率和控制K值。还可以防止由于完成涂覆后不平衡酸度而导致的刻痕。

主权项

1.一种抗反射涂料组合物，包括：式1的化合物和式2的化合物：式1其中，R，R′和R″分别独立选自氢和甲基；R_a至R_d，和R₁至R₁₈各自独立选自-H、-OH、-OCOCH₃、-COOH、-CH₂OH，或者具有1至5个碳原子的烷基和具有1至5个碳原子的烷氧烷基；m和n各自代表选自1、2、3、4和5的一个整数；x、y和z各自代表0.01-0.99的摩尔分数；式2其中，R₁₉和R₂₀各自为具有1-10个碳原子的烷基或具有1-10个碳原子的烷氧基；和R₂₁为氢或甲基。