[发明专利]熔断电路无效

专利信息
申请号: 200610143570.1 申请日: 2006-11-09
公开(公告)号: CN101005069A 公开(公告)日: 2007-07-25
发明(设计)人: 大竹诚治 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01C10/16;H01L21/82;H03K17/687
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 邵亚丽;李晓舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在本发明的一种熔断电路中,作为熔断元件使用了由多晶硅膜或钨硅膜构成的电阻(5~9),作为将电阻(5~9)的一部分或全部熔断的驱动元件,使用低耐压的MOS晶体管(10~14)。因而,通过使用MOS晶体管(10~14),可以缩小驱动元件的形成区域,可以减小IC芯片的面积。本发明能够解决在现有的电流调整电路中,因将齐纳二极管作为熔断元件而使用高耐压的双极性晶体管,所以存在不能高效率地利用IC芯片面积的问题。
搜索关键词: 熔断 电路
【主权项】:
1.一种熔断电路,具有:电阻,连接到电源电路;以及晶体管,对所述电阻提供电流,所述晶体管具有将所述电阻的一部分或全部熔断的电流能力。
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