[发明专利]周边曝光装置及其方法有效
| 申请号： | 200610143737.4 | 申请日： | 2006-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN1959538A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | 剑持晴康;佐藤博明;池田泰人;森昌人 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 党晓林 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种周边曝光装置及其方法，该周边曝光装置及其方法可提高生产量并使污染基板表面的原因达到最小限度。周边曝光装置对基板(W)的周边区域照射包含紫外线的光，来对光阻剂墨液进行曝光，该装置包括：紫外线照射单元(9)，其设于处于基板上方的位置，从形成在框体的照射口(9m)经由照射用透镜(9e)将包含紫外线的光照射至基板的周边区域；照度测量部(11)，其设于紫外线照射单元，测量紫外线的照度；以及照度测量部移动机构，其使照度测量部移动至紫外线照射单元的照射口的面对位置以及从照射口离开的退避位置。 | ||
| 搜索关键词： | 周边 曝光 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种周边曝光装置，该周边曝光装置对基板的周边区域照射包含紫外线的光，来对光阻剂墨液进行曝光，其特征在于，该周边曝光装置具有：紫外线照射单元，其设于处于上述基板上方的位置，从形成在框体的照射口经由照射用透镜将包含紫外线的光照射至上述基板的周边区域；照度测量部，其设于上述紫外线照射单元，测量紫外线的照度；以及照度测量部移动机构，其使上述照度测量部移动至上述紫外线照射单元的照射口的面对位置以及从上述照射口离开的退避位置。
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