[发明专利]光致抗蚀剂组合物及利用它制备薄膜晶体管基底的方法有效
| 申请号： | 200610144771.3 | 申请日： | 2006-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN1936705A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 朴廷敏;李羲国;尹赫敏;丘翼赫;金柄郁 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 光致抗蚀剂组合物包含约10～70％重量的含有苯酚－基聚合物的粘合剂树脂、约0.5～10％重量的光－酸发生剂、约1～20％重量的交联剂、约0.1～5％重量的染料和约10～80％重量的溶剂。该光致抗蚀剂组合物可以应用于例如制备TFT基底的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 利用 制备 薄膜晶体管 基底 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物，包含：约10～70％重量的含有苯酚-基聚合物的粘合剂树脂；约0.5～10％重量的光-酸发生剂；约1～20％重量的交联剂；约0.1～5％重量的染料；及约10～80％重量的溶剂。
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