[发明专利]像素结构及其制造方法有效
| 申请号： | 200610145446.9 | 申请日： | 2006-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN1959511A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | 林祥麟;李刘中;黄国有 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁挥;徐金国 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种像素结构，包括：一基板；一第一数据线，形成于该基板上，该第一数据线具有一末端；一第一绝缘层，覆盖该第一数据线，露出该第一数据线的部分末端；一遮蔽电极，设置于该第一绝缘层上，并与该第一数据线部分重迭；一第二数据线，形成于该第一绝缘层上，并与露出的该第一数据线末端电性连接；一第二绝缘层，覆盖该遮蔽电极与该第二数据线；以及一像素电极，形成于该第二绝缘层上，并与该遮蔽电极部分重迭。本发明另提供一种像素结构的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种像素结构，其特征在于，包括：一基板；一第一数据线，形成于该基板上，该第一数据线具有一末端；一第一绝缘层，覆盖该第一数据线，露出该第一数据线的部分末端；一遮蔽电极，设置于该第一绝缘层上，并与该第一数据线部分重迭；一第二数据线，形成于该第一绝缘层上，并与露出的该第一数据线末端电性连接；一第二绝缘层，覆盖该遮蔽电极与该第二数据线；以及一像素电极，形成于该第二绝缘层上，并与该遮蔽电极部分重迭。
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