[发明专利]转移衬底、转移方法和制造显示器件的方法有效
申请号: | 200610145774.9 | 申请日: | 2006-11-21 |
公开(公告)号: | CN1972540A | 公开(公告)日: | 2007-05-30 |
发明(设计)人: | 松尾圭介 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | H05B33/02 | 分类号: | H05B33/02;H05B33/10;H01L27/32;H01L51/00;H01L51/56 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 董方源 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种包括经由光吸收层的支撑衬底上的转移材料层的转移衬底。在支撑衬底和光吸收层之间提供有用于防止支撑衬底和光吸收层的界面处的光反射的抗反射图样。该抗反射图样的厚度被设为这样一个值,利用该值,在光吸收层中吸收的具有预定波长的光的吸收比得以最大化。 | ||
搜索关键词: | 转移 衬底 方法 制造 显示 器件 | ||
【主权项】:
1.一种包括经由光吸收层的支撑衬底上的转移材料层的转移衬底,其中在所述支撑衬底和所述光吸收层之间提供有用于防止所述支撑衬底和所述光吸收层的界面处的光反射的抗反射图样,并且所述抗反射图样具有这样的膜厚,利用该膜厚,在所述光吸收层中吸收的具有预定波长的光的吸收比得以最大化。
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