[发明专利]具有用于清洁残留物质的喷嘴保护器的喷墨打印头无效

专利信息
申请号: 200610145965.5 申请日: 2002-08-21
公开(公告)号: CN1962267A 公开(公告)日: 2007-05-16
发明(设计)人: 卡·西尔弗布鲁克 申请(专利权)人: 西尔弗布鲁克研究有限公司
主分类号: B41J2/14 分类号: B41J2/14;B41J2/045;B41J2/165
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 王艳江;段斌
地址: 澳大利亚新*** 国省代码: 澳大利亚;AU
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种喷墨打印头,其设有用于将墨水喷射到待打印的基底上的喷嘴阵列和设置在所述喷嘴之上的喷嘴保护器。所述喷嘴保护器具有孔隙阵列,所述孔隙阵列从所述喷嘴保护器的第一表面延伸至其第二表面。所述第一表面朝向所述喷嘴阵列,所述第二表面朝向所述待打印的基底。所述孔隙阵列构造成与所述喷嘴阵列相对齐,从而使得从所述喷嘴喷射的墨水穿过所述孔隙。所述第二表面构造成与刮片相接合,所述刮片定期地清扫所述第二表面以清除残留物质,所述第二表面具有至少一个围绕一组所述孔隙的凹槽,从而防止所述刮片与直接地邻接该组中的任意所述孔隙的所述第二表面相接合。
搜索关键词: 具有 用于 清洁 残留 物质 喷嘴 保护 喷墨 打印头
【主权项】:
1.一种喷墨打印头,包括:喷嘴阵列,用于将墨水喷射到待打印的基底上;和设置在所述喷嘴之上的喷嘴保护器,所述喷嘴保护器具有孔隙阵列,所述孔隙阵列从所述喷嘴保护器的第一表面延伸至其第二表面,所述第一表面朝向所述喷嘴阵列,所述第二表面朝向所述待打印的基底,所述孔隙阵列构造成与所述喷嘴阵列相对齐,从而使得从所述喷嘴喷射的墨水穿过所述孔隙,其中,所述第二表面构造成与刮片相接合,所述刮片定期地清扫所述第二表面以清除残留物质,所述第二表面具有至少一个围绕一组所述孔隙的凹槽,从而防止所述刮片与直接地邻接该组中的任意所述孔隙的所述第二表面相接合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西尔弗布鲁克研究有限公司,未经西尔弗布鲁克研究有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610145965.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top