[发明专利]光敏组合物有效
| 申请号： | 200610146456.4 | 申请日： | 2006-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN1975577A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | M·R·温克尔;J·E·斯蒂珀;刘向前;J·奥卡达－科克利;S·A·伊比特森 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/028 | 分类号： | G03F7/028;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供适合在单步涂敷应用中沉积厚的光致抗蚀剂层的光致抗蚀剂组合物和方法。该光致抗蚀剂层特别适合用在芯片级封装中，例如，用于形成金属突起。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光敏组合物，所述组合物包括：通过丙烯酸和/或甲基丙烯酸与一种或多种选自丙烯酸酯单体、甲基丙烯酸酯单体和乙烯基芳族单体的单体的自由基聚合所制备的粘合剂聚合物，具有两个或多个烯键式不饱和基团的可自由基聚合的单体，自由基光引发剂，和稳定的自由基抑制剂。
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