[发明专利]用于蚀刻孔穴的灰浆清理的装置和方法无效
| 申请号： | 200610146482.7 | 申请日： | 2006-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN1970230A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | I·M·戴维斯;D·P·劳比 | 申请（专利权）人： | 波克股份有限公司 |
| 主分类号： | B24C1/04 | 分类号： | B24C1/04;B24C5/00;B24C7/00;B24C5/02;B24C11/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 胡晓萍 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描写一种从半导体蚀刻孔室或孔室部件中清理碎片的方法，该方法包括引导雾化磨蚀灰浆到这样孔室或孔室部件的至少一些内部表面上。也对于实施这样方法的装置进行描述。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 孔穴 灰浆 清理 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种装置，它包括：(a)一个喷雾头，适合于产生雾化的磨蚀灰浆，该喷雾头具有磨蚀灰浆进口、雾化流体进口、和雾化磨蚀灰浆出口；(b)一个磨蚀灰浆容器，该磨蚀灰浆容器流体连通地连接到磨蚀灰浆进口并且限定用于包括水和磨蚀微粒的灰浆的空间；和(c)一个雾化流体源，该流体源流体连通地连接到雾化流体进口。
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