[发明专利]平面灯源及其制造方法有效
| 申请号： | 200610146485.0 | 申请日： | 2006-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN101183629A | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 张昭仁;许政凯;哀嘉华 | 申请（专利权）人： | 中华映管股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J9/02 | 分类号： | H01J9/02;H01J9/22;H01J9/00;H01J61/04;H01J61/35;H01J61/38 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 郭蔚 |
| 地址： | 台湾省桃园*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种平面灯源及其制造方法，包含：提供相互平行之第一、第二基板，第二基板表面设置有多数电极；形成一第一介电层覆盖具有电极的第二基板表面；形成一第一图案于第一介电层的表面；形成一第二介电层于第一介电层的表面且覆盖于第一图案之上；形成一第二图案于第二介电层的表面；以第一图案作为一蚀刻终止层及以第二图案作为一遮罩移除部份第二介电层，使第二介电层形成为多数突起结构；移除第一、第二图案；涂布一荧光层于第二基板表面及第一、第二介电层的外表面；及填充一放电气体于第一、第二基板之间。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种平面灯源的制造方法，包含：提供一第一基板及一第二基板，该第二基板系平行该第一基板，且该第二基板的表面系设置有多数电极；形成一第一介电层覆盖具有该些电极的该第二基板的表面；形成一第一光阻膜于该第一介电层的表面，并经由光学微影制作工艺形成一第一图案；形成一第二介电层于该第一介电层的表面，且覆盖于该第一图案之上；形成一第二光阻膜于该第二介电层的表面，并经由光学微影制作工艺形成一第二图案；以该第一图案作为一蚀刻终止层及以该第二图案作为一遮罩，移除部份该第二介电层，使该第二介电层形成为多数突起结构；移除该第一图案及该第二图案；涂布一荧光层于该第二基板表面及该第一、第二介电层的外表面；及填充一放电气体于该第一基板及该第二基板之间。
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