[发明专利]SCR防静电保护结构有效
申请号: | 200610147414.2 | 申请日: | 2006-12-18 |
公开(公告)号: | CN101207122A | 公开(公告)日: | 2008-06-25 |
发明(设计)人: | 苏庆 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L23/60 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 顾继光 |
地址: | 201206上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种SCR防静电保护结构,包括P型衬底,在P型衬底上包括有N阱注入区和P阱注入区;在N阱注入区内包括有一个P型注入区和一个N型注入区,N阱注入区内的P型注入区和N型注入区之间被一个场氧化层隔离区隔开;在P阱注入区也包括有一个P型注入区和一个N型注入区,P阱注入区的P型注入区和N型注入区之间有若干二极管单元,在所述N阱注入区内的P型注入区与所述P阱注入区的N型注入区之间的场氧化层隔离区的上面设置有多晶硅,所述多晶硅连接有一个触发电路。本发明有效的降低了可控硅的开启电压,既保证不增加新的工艺条件,又使得用于ESD放电的寄生NPN管与PNP管更容易开启,可以充分发挥其ESD能力。 | ||
搜索关键词: | scr 静电 保护 结构 | ||
【主权项】:
1.一种SCR防静电保护结构,包括P型衬底,在所述P型衬底上包括有N阱注入区和P阱注入区;在所述N阱注入区内包括有一个P型注入区和一个N型注入区,所述N阱注入区内的P型注入区和N型注入区之间被一个场氧化层隔离区隔开;在所述P阱注入区也包括有一个P型注入区和一个N型注入区,所述P阱注入区的P型注入区和N型注入区之间有若干二极管单元,所述二极管单元由P型注入区和N型注入区以及位于二者之间的场氧化层隔离区组成,其特征在于,在所述N阱注入区内的P型注入区与所述P阱注入区的N型注入区之间的场氧化层隔离区的上面设置有多晶硅,所述多晶硅连接有一个触发电路。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的