[发明专利]光刻检测图形及光刻版版图有效
| 申请号： | 200610147433.5 | 申请日： | 2006-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN101206406A | 公开（公告）日： | 2008-06-25 |
| 发明（设计）人： | 李庆刚 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/14;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻检测图形及光刻版版图，其中，所述检测图形至少由三组条形组组成，每一所述条形组内的条形宽度及分布周期相同，各个所述条形组之间的条形分布周期各不相同；具有多个该检测图形的版图可以实现对多种密集度的图形的监测，改善了现有的检测图形因未能全面检测光刻效果而导致的晶片报废或器件成品率低下的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 检测 图形 版图 | ||
【主权项】：
1.一种光刻检测图形，其特征在于：所述检测图形至少由三组条形组组成，每一组所述条形组内的条形宽度及分布周期相同，各个所述条形组之间的条形分布周期各不相同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610147433.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
