[发明专利]抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法及其产品无效
| 申请号： | 200610147601.0 | 申请日： | 2006-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN100999815A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | 周菊先 | 申请（专利权）人： | 周菊先 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;C23C14/14;C23C14/02;C23C14/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200333上海市普陀*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 涉及纺织工业中生产、日用和技术用抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法及其产品。方法特征是先对纺织材料的基材作等离子体预处理，随后采用溅镀方法在负压下溅射银、铜或钛的靶材制得原子、分子级银、铜或二氧化钛，并同时将原子、分子级银、铜或二氧化钛加载于纺织材料表面；产品特征是纺织材料的基材是合成纤维梭织物或合成纤维非织造布，且有一层以原子或分子形态溅射于其表面的银、铜或二氧化钛镀膜层。优点是实现了抗菌剂银、铜或二氧化钛的制备和加载过程的同时进行，镀膜层致密、稳定、牢固，同时解决了一般后处理涂布方法中纳米级二氧化钛的团聚问题及环境污染。 | ||
| 搜索关键词： | 抗菌 纺织 材料 负压溅镀 制造 方法 及其 产品 | ||
【主权项】：
1.抗菌纺织材料的负压溅镀制造方法，其特征在于先对所述纺织材料的基材作等离子体处理，随后采用溅镀方法在负压下溅射银、铜或钛的靶材制得原子、分子级银、铜或二氧化钛，并在同时将原子、分子级的银、铜或二氧化钛加载于纺织材料表面，所述纺织材料的基材的等离子体预处理采用介质阻挡放电低温等离子体处理机，处理条件为：处理时间：0.5～5min，气体温度：200～350K，气压为普通大气压；所述在负压下溅射银、铜或钛的靶材时，通入氩气作为激发气体，在溅射钛时还同时通入氧气以形成二氧化钛，溅镀条件为：时间：2～70min，负压：133～1×10-3Pa。
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