[发明专利]半导体硅片的清洗装置及清洗方法无效
| 申请号： | 200610147841.0 | 申请日： | 2006-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN1986086A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | 张晨骋 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种半导体硅片的清洗装置，包括清洗水槽和承载硅片的托架，其中，该装置还包括一个机械悬臂，该机械悬臂上设有至少一个超声波振荡发生器，其中，该机械悬臂可以伸入清洗水槽内运动，设在机械臂上的超生波振荡发生器在运动过程中提供超生波能量。本发明还提供一种半导体硅片的清洗方法。与现有技术相比，安装在机械悬臂上的超声波振荡器，可以随着机械悬臂的运动产生均匀的超生波能量，有效提高硅片表面超生波能量的均匀性，从而更好地去除硅片表面的微小颗粒，同时也减少由超生波能量不均造成硅片的损伤。本发明不仅可以有效提高生产效率，同时也不会带来过多额外的成本，并适用于业界广泛使用的清洗设备。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 硅片 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种半导体硅片的清洗装置，包括清洗水槽和承载硅片的托架，其特征在于：该装置还包括一个机械悬臂，该机械悬臂上设有至少一个超声波振荡发生器，其中，该机械悬臂可以伸入清洗水槽内运动，设在机械臂上的超生波振荡发生器在运动过程中提供超生波能量。
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