[发明专利]悬挂式支撑成像系统及光刻装置无效

专利信息
申请号: 200610147842.5 申请日: 2006-12-22
公开(公告)号: CN101042539A 公开(公告)日: 2007-09-26
发明(设计)人: 严天宏;朱岳彬;袁志扬;王天明;邹恒杉;唐海明;刘育 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 王洁
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于投影曝光技术领域,具体公开了一种悬挂式支撑成像系统,以及带有此种成像系统的光刻装置。其包括成像系统和支撑装置,其特征在于:还包括状态检测传感器和主动执行装置,所述状态检测传感器固定设置在成像系统上;所述主动执行装置设置在成像系统外侧,其与状态检测传感器相连用于接收位置状态传感器得到的信号并控制校正成像系统的位置;支撑装置为悬挂构件,成像系统悬挂在悬挂构件的下端。本发明成像系统通过采用悬挂式连接结构,使整个成像系统与光刻装置实现分系统分离式的主动隔振,从而改善掩模支撑与投影物镜的相对振动模态,以降低掩模版与曝光系统光轴间的相对误差对同步扫描质量的影响。
搜索关键词: 悬挂 支撑 成像 系统 光刻 装置
【主权项】:
1.一种悬挂式支撑成像系统,其设置在光刻投影装置的基础框架内,包括成像系统和支撑装置,其特征在于:所述系统还包括状态检测传感器和主动执行装置,所述状态检测传感器固定设置在成像系统上;所述主动执行装置设置在成像系统外侧和基础框架之间,其与状态检测传感器相连用于接收状态传感器得到的信号并控制校正成像系统的位置;所述支撑装置为悬挂构件,所述成像系统悬挂在悬挂构件的下端;成像系统与悬挂构件下端采用转动副连接。
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