[发明专利]疏水结构及其制法有效

专利信息
申请号: 200610148503.9 申请日: 2006-11-17
公开(公告)号: CN1990899A 公开(公告)日: 2007-07-04
发明(设计)人: 陈志玮;林春宏;郑总辉;陈致源;杨德辉;蔡陈德;吴清吉;涂运泉;张加强 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/22;C03C17/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 程伟;戈泊
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种疏水结构及其制法,主要是运用大气等离子镀膜技术在基材表面依序形成具有粗糙面的硬镀层、以及形成于该粗糙面上的疏水镀层,相比于现有技术,本发明的疏水结构是含有硬镀层及疏水镀层,因此可提升该疏水结构的硬度与耐磨性、保护底层基材、提升透明度、提升疏水性,而运用大气等离子的镀膜技术,则可大幅降低制造成本,因此克服现有技术的缺点。
搜索关键词: 疏水 结构 及其 制法
【主权项】:
1.一种疏水结构制法,包含下列步骤:提供一基材;在该基材表面运用大气等离子镀膜技术形成具有粗糙面的硬镀层,所述粗糙面的平均表面粗糙度范围为5nm至3μm;以及在该硬镀层上运用大气等离子镀膜技术形成疏水镀层,从而在该基材表面制成含有硬镀层及疏水镀层的疏水结构,所述疏水镀层为含氟烷基的硅化合物镀层。
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