[发明专利]制备滤色器的黑矩阵的方法有效
| 申请号： | 200610148645.5 | 申请日： | 2006-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN101013219A | 公开（公告）日： | 2007-08-08 |
| 发明（设计）人： | 金圣雄;金佑植;车泰运;裵纪德;金晟镇;辛承柱;白锡淳 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/20;G02B5/23 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 根据本发明提供了一种制备滤色器的黑矩阵的方法，其包括：在透明基板的表面上形成憎水有机材料的光遮挡层；通过构图光遮挡层形成了黑矩阵；在黑矩阵的顶表面上形成阻挡层；以及加热形成有阻挡层的黑矩阵，并使用紫外光照射黑矩阵的上部分。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 滤色器 矩阵 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制备滤色器的黑矩阵的方法，包括：在透明基板的表面上形成憎水有机材料的光遮挡层；通过构图所述光遮挡层形成了黑矩阵；在所述黑矩阵的顶表面上形成阻挡层；以及加热形成有所述阻挡层的黑矩阵，并使用紫外光照射所述黑矩阵的上部分。
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