[发明专利]抗反射膜和曝光方法

摘要

在抗蚀剂层和形成在硅衬底表面上的氧化硅层之间提供抗反射膜，用于在具有190nm到195nm波长和0.93到1.2数值孔径NA的曝光系统中曝光抗蚀剂层。假设组成抗反射膜的上层和下层的复折射率分别是N₁(＝n₁－k₁i)和N₂(＝n₂－k₂i)，并且两层的厚度为d₁和d₂，则当选择[n₁₀、k₁₀、d₁₀、n₂₀、k₂₀、d₂₀]的值的预定组合时，n₁、k₁、d₁、n₂、k₂、和d₂满足关系式{(n₁－n₁₀)/(n_1m－n₁₀)}²+{(k₁－k₁₀)/(k_1m－k₁₀)}²+{(d₁－d₁₀)/(d_1m－d₁₀)}²+{(n₂－n₂₀)/(n_2m－n₂₀)}²+{(k₂－k₂₀)/(k_2m－k₂₀)}²+{(d₂－d